Dulang Wafer SiC

Dulang Wafer SiC Semicorex, Berfungsi sebagai elemen utama dalam radas MOCVD, memegang dan mengurus substrat kristal tunggal secara terma. Ciri prestasinya yang luar biasa, termasuk kestabilan dan keseragaman haba yang unggul serta perencatan kakisan dan sebagainya, adalah penting untuk pertumbuhan bahan epitaxial yang berkualiti tinggi. Atribut ini memastikan keseragaman dan ketulenan yang konsisten dalam lapisan filem nipis.

Dipertingkatkan dengan salutan SiC, dulang wafer SiC meningkatkan kekonduksian terma dengan ketara, memudahkan pengagihan haba yang pantas dan sekata penting untuk pertumbuhan epitaxial yang seragam. Keupayaan dulang wafer SiC untuk menyerap dan memancarkan haba dengan cekap mengekalkan suhu yang stabil dan konsisten, penting untuk pemendapan yang tepat bagi filem nipis. Pengagihan suhu seragam ini penting untuk menghasilkan lapisan epitaxial berkualiti tinggi, yang penting untuk prestasi peranti semikonduktor termaju.

Prestasi yang boleh dipercayai dan jangka hayat Dulang Wafer SiC mengurangkan kekerapan penggantian, meminimumkan masa henti dan kos penyelenggaraan. Pembinaan yang teguh dan keupayaan operasi yang unggul meningkatkan kecekapan proses, dengan itu meningkatkan produktiviti dan keberkesanan kos dalam pembuatan semikonduktor.

Selain itu, Dulang Wafer SiC Semicorex mempamerkan rintangan yang sangat baik terhadap pengoksidaan dan kakisan pada suhu tinggi, seterusnya memastikan ketahanan dan kebolehpercayaannya. Ketahanan habanya yang tinggi, ditandakan dengan takat lebur yang ketara, membolehkannya menahan keadaan terma yang ketat yang wujud dalam proses fabrikasi semikonduktor.