Rumah > Produk > Seramik > Silikon Karbida (SiC) > Pemanas Proses Wafer
Pemanas Proses Wafer
  • Pemanas Proses WaferPemanas Proses Wafer
  • Pemanas Proses WaferPemanas Proses Wafer
  • Pemanas Proses WaferPemanas Proses Wafer
  • Pemanas Proses WaferPemanas Proses Wafer
  • Pemanas Proses WaferPemanas Proses Wafer

Pemanas Proses Wafer

Semicorex ialah pengeluar dan pembekal Susceptor Grafit Bersalut Silikon Karbida berskala besar di China. Kami memberi tumpuan kepada industri semikonduktor seperti lapisan silikon karbida dan semikonduktor epitaksi. Pemanas Proses Wafer kami mempunyai kelebihan harga yang baik dan meliputi kebanyakan pasaran Eropah dan Amerika. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Pemanas Proses Wafer Semicorex dibuat oleh Silicon Carbide Coating (SiC) grafit, salutan digunakan oleh kaedah CVD untuk gred tertentu grafit berketumpatan tinggi, jadi ia boleh beroperasi dalam relau suhu tinggi dengan lebih 3000 °C dalam suasana lengai, 2200°C dalam vakum.
Ciri khas dan jisim rendah bahan Pemanas Proses Wafer membolehkan kadar pemanasan pantas, pengagihan suhu seragam dan ketepatan yang luar biasa dalam kawalan. Berbanding dengan bahan lain, permukaan Silicon Carbide kekal rata kerana pengembangan habanya yang rendah walaupun dikendalikan dengan perubahan suhu yang cepat. Plat panas sangat sesuai untuk menuntut proses dalam sistem pemprosesan semikonduktor.
Di Semicorex, kami memberi tumpuan kepada menyediakan produk berkualiti tinggi dan kos efektif kepada pelanggan kami. Pemanas Proses Wafer kami mempunyai kelebihan harga dan dieksport ke banyak pasaran Eropah dan Amerika. Kami berhasrat untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda, menyampaikan produk berkualiti yang konsisten dan perkhidmatan pelanggan yang luar biasa.


Parameter Pemanas Proses Wafer

Spesifikasi Teknikal

VET-M3

Ketumpatan Pukal (g/cm3)

≥1.85

Kandungan Abu (PPM)

≤500

Kekerasan Pantai

≥45

Rintangan Khusus (μ.Ω.m)

≤12

Kekuatan lentur (Mpa)

≥40

Kekuatan Mampatan (Mpa)

≥70

Maks. Saiz Bijirin (μm)

≤43

Pekali Pengembangan Terma Mm/°C

≤4.4*10-6


Ciri-ciri Pemanas Proses Wafer

- Salutan SiC CVD untuk meningkatkan hayat perkhidmatan.
- Rintangan suhu tinggi, rintangan kakisan, hayat perkhidmatan yang panjang, boleh meningkatkan kualiti dan hasil wafer.
- Ia mempunyai pekali pengembangan terma yang sangat rendah, rintangan suhu tinggi, rintangan haus yang tinggi, penebat yang baik, kestabilan kimia yang baik, dan penembusan cahaya kelihatan hampir ungu (merah).

Kami boleh menyediakan bekas grafit anti-pengoksidaan dan jangka hayat yang panjang, acuan grafit dan semua bahagian pemanas grafit.





Teg Panas: Pemanas Proses Wafer, China, Pengilang, Pembekal, Kilang, Disesuaikan, Pukal, Lanjutan, Tahan Lama
Kategori Berkaitan
Hantar Pertanyaan
Sila berasa bebas untuk memberikan pertanyaan anda dalam borang di bawah. Kami akan membalas anda dalam masa 24 jam.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept