Bot Wafer Seramik

Semicorex menyediakan bot wafer, alas dan pembawa wafer tersuai untuk konfigurasi menegak / lajur dan mendatar. Kami telah menjadi pengilang dan pembekal filem salutan silikon karbida selama bertahun-tahun. Bot Wafer Seramik kami mempunyai kelebihan harga yang baik dan meliputi kebanyakan pasaran Eropah dan Amerika. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Memperkenalkan Bot Wafer Seramik silikon karbida berkualiti tinggi kami, direka untuk menyediakan penyelesaian yang boleh dipercayai untuk pemprosesan wafer dalam pelbagai industri. Alas seramik ini dihasilkan menggunakan seramik ketulenan tinggi, yang menawarkan ketahanan yang sangat baik terhadap kejutan haba, lelasan dan kakisan kimia, menjadikannya sesuai untuk persekitaran pemprosesan wafer yang keras.
Bot Wafer Seramik kami juga sangat disesuaikan, dan kami boleh bekerjasama dengan anda untuk mencipta alas tersuai untuk memenuhi spesifikasi unik anda. Kami berbangga dengan keupayaan kami untuk menyampaikan produk berkualiti tinggi dan boleh dipercayai yang memenuhi permintaan pelanggan kami. Bot Wafer Seramik kami dibuat untuk bertahan dan menawarkan hayat perkhidmatan yang panjang, memastikan anda mendapat nilai terbaik daripada pelaburan anda.
Pesan sekarang dan rasai manfaat Bot Wafer Seramik kami yang berkualiti tinggi dalam operasi pemprosesan wafer anda.

Parameter Bot Wafer Seramik

Sifat Teknikal
Indeks	Unit	Nilai
Nama Bahan		Tindak balas Sintered Silicon Carbide	Silikon Karbida Tersinter Tanpa Tekanan	Karbida Silikon Terhablur Semula
Komposisi		RBSiC	SSiC	R-SiC
Ketumpatan pukal	g/cm3	3	3.15 ± 0.03	2.60-2.70
Kekuatan lenturan	MPa (kpsi)	338(49)	380(55)	80-90 (20°C)90-100(1400°C)
Kekuatan mampatan	MPa (kpsi)	1120(158)	3970(560)	> 600
Kekerasan	Knoop	2700	2800	/
Memecah Ketabahan	MPa m1/2	4.5	4	/
Kekonduksian terma	W/m.k	95	120	23
Pekali Pengembangan Terma	10^-6.1/°C	5	4	4.7
Haba Tertentu	Joule/g 0k	0.8	0.67	/
Suhu maksimum dalam udara	℃	1200	1500	1600
Modulus Elastik	Gpa	360	410	240

Perbezaan antara SSiC dan RBSiC:

1. Proses pensinteran adalah berbeza. RBSiC adalah untuk menyusup Si bebas ke dalam silikon karbida pada suhu rendah, SSiC dibentuk oleh pengecutan semula jadi pada 2100 darjah.

2. SSiC mempunyai permukaan yang lebih licin, ketumpatan yang lebih tinggi dan kekuatan yang lebih tinggi, untuk beberapa pengedap dengan keperluan permukaan yang lebih ketat, SSiC akan menjadi lebih baik.

3. Masa penggunaan yang berbeza di bawah PH dan suhu yang berbeza, SSiC lebih panjang daripada RBSiC

Ciri-ciri Bot Wafer Seramik

Dibuat menggunakan seramik alumina ketulenan tinggi untuk ketahanan yang sangat baik terhadap kejutan haba, lelasan dan kakisan kimia
Direka bentuk untuk sokongan dan kestabilan optimum semasa pemprosesan wafer, meminimumkan risiko kerosakan atau pencemaran
Tersedia dalam pelbagai saiz untuk menampung diameter dan ketebalan wafer yang berbeza
Boleh disesuaikan untuk memenuhi spesifikasi unik
Dibina untuk bertahan dan menawarkan hayat perkhidmatan yang panjang