> Produk

Produk

produk baru

View as

Dulang Etching Plasma ICP

Dulang Etching Plasma ICP Semicorex direka bentuk khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami menyediakan profil terma sekata, corak aliran gas lamina dan menghalang pencemaran atau resapan bendasing.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Sistem Etching Plasma ICP

Pembawa SiC Coated Semicorex untuk Sistem Etsa Plasma ICP ialah penyelesaian yang boleh dipercayai dan kos efektif untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Pembawa kami menampilkan salutan kristal SiC halus yang memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman haba dan rintangan kimia yang tahan lama.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Plasma Berganding Induktif (ICP)

Susceptor bersalut silikon karbida Semicorex untuk Inductively-Coupled Plasma (ICP) direka khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami memastikan profil haba yang sekata, corak aliran gas lamina dan mengelakkan pencemaran atau resapan bendasing.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Pemegang Wafer Etching ICP

Pemegang wafer etsa ICP Semicorex ialah penyelesaian yang sempurna untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan rintangan pengoksidaan suhu tinggi yang stabil sehingga 1600°C, pembawa kami memastikan profil haba yang sekata, corak aliran gas lamina dan mengelakkan pencemaran atau resapan bendasing.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Plat Pembawa Etching ICP

Plat Pembawa Etching ICP Semicorex ialah penyelesaian yang sempurna untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami menyediakan rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman haba, dan corak aliran gas lamina. Dengan permukaan yang bersih dan licin, pembawa kami sesuai untuk mengendalikan wafer asli.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Pemegang Wafer untuk Proses Etsa ICP

Pemegang Wafer Semicorex untuk Proses Etsa ICP ialah pilihan yang tepat untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami mempunyai rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman terma, dan corak aliran gas lamina yang optimum untuk hasil yang konsisten dan boleh dipercayai.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

<...135 136 137 138 139...144 >