Produk

View as  
 
Grafit Bersalut Karbon Silikon ICP

Grafit Bersalut Karbon Silikon ICP

Grafit Bersalut Karbon Silikon ICP Semicorex ialah pilihan ideal untuk menuntut pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami mempunyai rintangan haba dan kakisan yang unggul, malah keseragaman terma, dan corak aliran gas lamina yang optimum.

Baca LagiHantar Pertanyaan
Sistem Etsa Plasma ICP untuk Proses PSS

Sistem Etsa Plasma ICP untuk Proses PSS

Pilih Sistem Epitaksi Plasma ICP Semicorex untuk Proses PSS untuk proses epitaksi dan MOCVD berkualiti tinggi. Produk kami direka bentuk khusus untuk proses ini, menawarkan rintangan haba dan kakisan yang unggul. Dengan permukaan yang bersih dan licin, pembawa kami sesuai untuk mengendalikan wafer asli.

Baca LagiHantar Pertanyaan
Plat Etching Plasma ICP

Plat Etching Plasma ICP

Plat Etching Plasma ICP Semicorex memberikan rintangan haba dan kakisan yang unggul untuk pengendalian wafer dan proses pemendapan filem nipis. Produk kami direka bentuk untuk menahan suhu tinggi dan pembersihan kimia yang keras, memastikan ketahanan dan umur panjang. Dengan permukaan yang bersih dan licin, pembawa kami sesuai untuk mengendalikan wafer asli.

Baca LagiHantar Pertanyaan
Pembawa Etching ICP Silicon Carbide

Pembawa Etching ICP Silicon Carbide

Mencari pembawa wafer yang boleh dipercayai untuk proses etsa? Tidak perlu mencari lagi daripada Pembawa Etching ICP Silicon Carbide Semicorex. Produk kami direka bentuk untuk menahan suhu tinggi dan pembersihan kimia yang keras, memastikan ketahanan dan umur panjang. Dengan permukaan yang bersih dan licin, pembawa kami sesuai untuk mengendalikan wafer asli.

Baca LagiHantar Pertanyaan
Plat SiC untuk Proses Goresan ICP

Plat SiC untuk Proses Goresan ICP

Plat SiC Semicorex untuk Proses Etsa ICP ialah penyelesaian yang sempurna untuk keperluan pemprosesan kimia suhu tinggi dan keras dalam pemendapan filem nipis dan pengendalian wafer. Produk kami mempunyai rintangan haba yang unggul dan juga keseragaman terma, memastikan ketebalan dan rintangan lapisan epi yang konsisten. Dengan permukaan yang bersih dan licin, salutan kristal SiC ketulenan tinggi kami menyediakan pengendalian optimum untuk wafer murni.

Baca LagiHantar Pertanyaan
Pembawa Etching ICP Bersalut SiC

Pembawa Etching ICP Bersalut SiC

Pembawa Etsa ICP Bersalut Semicorex SiC direka bentuk khusus untuk peralatan epitaksi dengan rintangan haba dan kakisan yang tinggi di China. Produk kami mempunyai kelebihan harga yang baik dan meliputi kebanyakan pasaran Eropah dan Amerika. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Baca LagiHantar Pertanyaan
X
Kami menggunakan kuki untuk menawarkan anda pengalaman menyemak imbas yang lebih baik, menganalisis trafik tapak dan memperibadikan kandungan. Dengan menggunakan tapak ini, anda bersetuju dengan penggunaan kuki kami. Dasar Privasi
Tolak Terima