> Produk

Produk

produk baru

View as

Pembawa Etching PSS Bersalut SiC

Pembawa wafer yang digunakan dalam pertumbuhan epixial dan pemprosesan pengendalian wafer mesti bertahan pada suhu tinggi dan pembersihan kimia yang keras. Pembawa Etsa PSS Bersalut Semicorex SiC direka khusus untuk aplikasi peralatan epitaksi yang menuntut ini. Produk kami mempunyai kelebihan harga yang baik dan meliputi kebanyakan pasaran Eropah dan Amerika. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Susceptor Tong Bersalut SiC untuk Pertumbuhan Epitaxial LPE

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor untuk LPE Epitaxial Growth ialah produk berprestasi tinggi yang direka untuk memberikan prestasi yang konsisten dan boleh dipercayai dalam tempoh yang panjang. Profil termanya yang sekata, corak aliran gas lamina dan pencegahan pencemaran menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epitaxial berkualiti tinggi pada cip wafer. Kebolehsesuaian dan keberkesanan kos menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasaran.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Sistem Epi Penerima Tong

Semicorex Barrel Susceptor Epi System ialah produk berkualiti tinggi yang menawarkan lekatan salutan yang unggul, ketulenan tinggi dan rintangan pengoksidaan suhu tinggi. Profil termanya yang sekata, corak aliran gas lamina dan pencegahan pencemaran menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial pada cip wafer. Keberkesanan kos dan kebolehsesuaiannya menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasaran.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Sistem Reaktor Epitaksi Fasa Cecair (LPE).

Sistem Reaktor Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) ialah produk inovatif yang menawarkan prestasi terma yang sangat baik, malah profil terma, dan lekatan salutan yang unggul. Ketulenannya yang tinggi, rintangan pengoksidaan suhu tinggi, dan rintangan kakisan menjadikannya pilihan yang ideal untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Pilihan yang boleh disesuaikan dan keberkesanan kos menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasaran.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Pemendapan Epitaxial CVD Dalam Reaktor Tong

Semicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ialah produk yang sangat tahan lama dan boleh dipercayai untuk mengembangkan lapisan epixial pada cip wafer. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi dan ketulenan tinggi menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Profil termanya yang sekata, corak aliran gas lamina dan pencegahan pencemaran menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epixial berkualiti tinggi.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

Pemendapan Epitaxial Silikon Dalam Reaktor Tong

Jika anda memerlukan susceptor grafit berprestasi tinggi untuk digunakan dalam aplikasi pembuatan semikonduktor, Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor ialah pilihan yang ideal. Salutan SiC ketulenan tinggi dan kekonduksian terma yang luar biasa memberikan perlindungan yang unggul dan sifat pengagihan haba, menjadikannya pilihan utama untuk prestasi yang boleh dipercayai dan konsisten walaupun dalam persekitaran yang paling mencabar.

Baca Lagi Hantar Pertanyaan

<...138 139 140 141 142...144 >