Tong Grafit Bersalut Silikon Karbida Semicorex ialah pilihan yang sempurna untuk aplikasi pembuatan semikonduktor yang memerlukan rintangan haba dan kakisan yang tinggi. Kekonduksian haba yang luar biasa dan sifat pengagihan haba menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam proses LPE dan persekitaran suhu tinggi yang lain.
Baca LagiHantar PertanyaanDengan ketumpatan dan kekonduksian terma yang sangat baik, Susceptor Tong Bersalut SiC Tahan Lama Semicorex untuk LPE ialah pilihan ideal untuk digunakan dalam proses LPE dan aplikasi pembuatan semikonduktor lain. Salutan SiC ketulenan tingginya memberikan perlindungan unggul dan sifat pengagihan haba, menjadikannya pilihan utama untuk hasil yang boleh dipercayai dan konsisten.
Baca LagiHantar PertanyaanApabila bercakap tentang pembuatan semikonduktor, Susceptor Barrel Bersalut SiC Suhu Tinggi Semicorex ialah pilihan utama untuk prestasi dan kebolehpercayaan yang unggul. Salutan SiC berkualiti tinggi dan kekonduksian terma yang luar biasa menjadikannya sesuai untuk digunakan walaupun dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis yang paling menuntut.
Baca LagiHantar PertanyaanDengan takat lebur yang tinggi, rintangan pengoksidaan dan rintangan kakisan, Susceptor Tong Bersalut Semicorex SiC untuk Pertumbuhan LPE ialah pilihan yang tepat untuk digunakan dalam aplikasi pertumbuhan kristal tunggal. Salutan silikon karbidanya memberikan sifat kerataan dan pengagihan haba yang luar biasa, memastikan prestasi yang boleh dipercayai dan konsisten walaupun dalam persekitaran suhu tinggi yang paling mencabar.
Baca LagiHantar PertanyaanJika anda sedang mencari suseptor grafit berkualiti tinggi yang disalut dengan SiC ketulenan tinggi, Semicorex LPE Barrel Susceptor dengan Salutan SiC ialah pilihan yang tepat. Kekonduksian haba yang luar biasa dan sifat pengagihan haba menjadikannya ideal untuk digunakan dalam aplikasi pembuatan semikonduktor.
Baca LagiHantar PertanyaanDengan ketumpatan dan kekonduksian terma yang unggul, Susceptor Tong Bersalut Semicorex SiC untuk Pertumbuhan Epitaxial ialah pilihan ideal untuk digunakan dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis. Disalut dengan SiC ketulenan tinggi, produk grafit ini memberikan perlindungan yang sangat baik dan pengagihan haba, memastikan prestasi yang boleh dipercayai dan konsisten dalam aplikasi pembuatan semikonduktor.
Baca LagiHantar Pertanyaan