Produk

Komponen ICP Bersalut SiC Semicorex direka khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan salutan kristal SiC yang halus, pembawa kami memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman terma, dan rintangan kimia yang tahan lama.

Apabila ia berkaitan dengan proses pengendalian wafer seperti epitaksi dan MOCVD, Salutan SiC Suhu Tinggi Semicorex untuk Ruang Etch Plasma adalah pilihan utama. Pembawa kami memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman terma, dan rintangan kimia tahan lama berkat salutan kristal SiC kami yang halus.

Plat SiC Semicorex untuk Proses Etsa ICP ialah penyelesaian yang sempurna untuk keperluan pemprosesan kimia suhu tinggi dan keras dalam pemendapan filem nipis dan pengendalian wafer. Produk kami mempunyai rintangan haba yang unggul dan juga keseragaman terma, memastikan ketebalan dan rintangan lapisan epi yang konsisten. Dengan permukaan yang bersih dan licin, salutan kristal SiC ketulenan tinggi kami menyediakan pengendalian optimum untuk wafer murni.

Pembawa Etsa ICP Bersalut Semicorex SiC direka bentuk khusus untuk peralatan epitaksi dengan rintangan haba dan kakisan yang tinggi di China. Produk kami mempunyai kelebihan harga yang baik dan meliputi kebanyakan pasaran Eropah dan Amerika. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Pembawa wafer yang digunakan dalam pertumbuhan epixial dan pemprosesan pengendalian wafer mesti bertahan pada suhu tinggi dan pembersihan kimia yang keras. Pembawa Etsa PSS Bersalut Semicorex SiC direka khusus untuk aplikasi peralatan epitaksi yang menuntut ini. Produk kami mempunyai kelebihan harga yang baik dan meliputi kebanyakan pasaran Eropah dan Amerika. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.

Semicorex SiC Coated Barrel Susceptor untuk LPE Epitaxial Growth ialah produk berprestasi tinggi yang direka untuk memberikan prestasi yang konsisten dan boleh dipercayai dalam tempoh yang panjang. Profil termanya yang sekata, corak aliran gas lamina dan pencegahan pencemaran menjadikannya pilihan ideal untuk pertumbuhan lapisan epitaxial berkualiti tinggi pada cip wafer. Kebolehsesuaian dan keberkesanan kos menjadikannya produk yang sangat kompetitif di pasaran.