Komponen ICP Bersalut SiC Semicorex direka khusus untuk proses pengendalian wafer suhu tinggi seperti epitaksi dan MOCVD. Dengan salutan kristal SiC yang halus, pembawa kami memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman terma, dan rintangan kimia yang tahan lama.
Komponen ICP Bersalut SiC Semicorex ialah pilihan utama untuk proses pengendalian wafer yang memerlukan suhu tinggi dan rintangan kimia. Pembawa kami menyediakan profil terma yang sekata, corak aliran gas lamina, dan mencegah pencemaran atau penyebaran kekotoran berkat kristal SiC kami yang halus. Dengan salutan kristal SiC yang halus, pembawa kami memberikan rintangan haba yang unggul, malah keseragaman terma, dan rintangan kimia yang tahan lama.
Di Semicorex, kami memberi tumpuan kepada menyediakan produk berkualiti tinggi dan kos efektif kepada pelanggan kami. Komponen ICP Bersalut SiC kami mempunyai kelebihan harga dan dieksport ke banyak pasaran Eropah dan Amerika. Kami berhasrat untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda, menyampaikan produk berkualiti yang konsisten dan perkhidmatan pelanggan yang luar biasa.
Hubungi kami hari ini untuk mengetahui lebih lanjut tentang Komponen ICP Bersalut SiC kami.
Parameter Komponen ICP Bersalut SiC
Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC |
||
Sifat SiC-CVD |
||
Struktur Kristal |
fasa FCC β |
|
Ketumpatan |
g/cm ³ |
3.21 |
Kekerasan |
Kekerasan Vickers |
2500 |
Saiz Bijirin |
μm |
2~10 |
Ketulenan Kimia |
% |
99.99995 |
Kapasiti Haba |
J kg-1 K-1 |
640 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 mata) |
415 |
Modulus Muda |
Gpa (4pt selekoh, 1300℃) |
430 |
Pengembangan Terma (C.T.E) |
10-6K-1 |
4.5 |
Kekonduksian terma |
(W/mK) |
300 |
Ciri-ciri Komponen ICP Bersalut SiC
- Elakkan mengelupas dan pastikan salutan pada semua permukaan
Rintangan pengoksidaan suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi sehingga 1600°C
Ketulenan tinggi: dibuat oleh pemendapan wap kimia CVD di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi.
Rintangan kakisan: kekerasan tinggi, permukaan padat dan zarah halus.
Rintangan kakisan: asid, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai corak aliran gas lamina terbaik
- Menjamin kesekataan profil terma
- Elakkan sebarang pencemaran atau resapan bendasing