Bot Wafer SiC

Bot Wafer SiC Semicorex, diperbuat daripada seramik Silicon Carbide (SiC), mendahului dalam memenuhi permintaan industri semikonduktor dengan memberikan prestasi yang tiada tandingan dalam persekitaran suhu tinggi. Memandangkan industri semikonduktor tanpa henti menolak sempadan fabrikasi mikro, permintaan untuk bahan berdaya tahan dan teguh menjadi yang utama.

Bot Wafer SiC memainkan peranan penting dalam memegang dan menyokong berbilang wafer semasa proses haba seperti resapan, pengoksidaan dan pemendapan wap kimia (CVD). Proses ini melibatkan menundukkan wafer pada suhu yang sangat tinggi, selalunya melebihi 1000°C, dalam suasana terkawal. Keseragaman dan ketekalan rawatan terma ini adalah penting untuk memastikan kualiti dan prestasi peranti semikonduktor yang dihasilkan. Keupayaan Bot Wafer SiC untuk menahan suhu tinggi sedemikian tanpa ubah bentuk atau degradasi memastikan bahawa wafer diproses secara seragam, yang membawa kepada hasil dan prestasi peranti yang unggul.

Kekonduksian terma luar biasa bot wafer SiC menjamin pengagihan haba yang sekata pada semua wafer, meminimumkan risiko kecerunan suhu yang boleh membawa kepada kecacatan pada peranti semikonduktor. Tambahan pula, pekali pengembangan terma (CTE) SiC yang rendah menghasilkan pengembangan dan pengecutan haba yang minimum semasa kitaran pemanasan dan penyejukan. Kestabilan ini adalah penting untuk mencegah tekanan mekanikal dan kemungkinan kerosakan pada wafer, terutamanya dengan geometri peranti yang mengecut.

Semasa proses terma, wafer terdedah kepada pelbagai gas reaktif yang boleh berinteraksi dengan bahan bot wafer SiC. Rintangan kimia yang sangat baik SiC memastikan ia tidak bertindak balas dengan gas-gas ini, menghalang pencemaran dan memastikan ketulenan wafer. Ini amat penting dalam pengeluaran peranti semikonduktor termaju, di mana walaupun jumlah surih pencemaran boleh membawa kepada kecacatan dan mengurangkan kebolehpercayaan peranti.