Vakum Chucks

Chucks vakum Semicorex adalah penyelesaian yang direka bentuk dengan tepat untuk menyediakan pengendalian wafer yang selamat, stabil, dan cekap dalam proses pembuatan semikonduktor. Cek vakum ini digunakan terutamanya untuk memegang wafer semasa pelbagai peringkat pemprosesan, memastikan kerosakan minimum kepada wafer, kestabilan maksimum, dan kecekapan proses yang dipertingkatkan. Chuck vakum kami boleh didapati dalam pelbagai bahan asas dan plat seramik, yang menawarkan penyelesaian yang disesuaikan untuk memenuhi keperluan pelbagai industri semikonduktor dan industri ketepatan yang lain.

Ciri dan bahan utama

Semicorex menawarkan pelbagai pilihan bahan asas untuk chuck vakum, yang membolehkan penyesuaian berdasarkan keperluan aplikasi tertentu:

Bahan asas:

• SUS430: Bahan asas keluli tahan karat yang terkenal dengan kekuatan dan ketahanan kakisannya, memberikan kestabilan mekanikal yang sangat baik.
• Aluminium Alloy 6061: Ringan namun kuat, asas aluminium ini menawarkan rintangan kakisan yang tinggi dan sesuai untuk aplikasi di mana berat badan adalah kebimbangan.
• Alumina Seramik (99% Alumina): Menawarkan kestabilan haba yang tinggi dan rintangan haus. Ia adalah pilihan yang sangat baik untuk persekitaran ketepatan tinggi di mana rintangan terma adalah kritikal.
• Granit: Dikenali dengan ketegaran dan sifat getaran yang lebih baik, granit menawarkan kestabilan dan ketepatan yang sangat baik semasa pengendalian wafer.
• Silicon Carbide (SIC) Seramik: Menawarkan kekerasan yang tinggi, kekonduksian terma, dan ketahanan terhadap kakisan kimia. Ia sesuai untuk persekitaran suhu tinggi dan agresif.

Plat seramik:

Alumina (Al₂o₃): Plat alumina terkenal dengan sifat penebat elektrik yang tinggi, rintangan haus, dan kestabilan suhu tinggi. Mereka sesuai untuk persekitaran di mana pencemaran minimum dan prestasi tinggi adalah penting.

Silicon Carbide (SIC): Plat seramik sic memberikan kekerasan yang luar biasa, kekonduksian terma yang tinggi, dan kestabilan pada suhu tinggi, menjadikannya ideal untuk proses pengendalian wafer yang maju dalam pengeluaran semikonduktor.

Ketepatan ketepatan dan pemilihan bahan

Kebosanan permukaan Chuck adalah faktor kritikal dalam memastikan pengendalian wafer yang betul dan hasil proses yang optimum. Pilihan bahan memberi kesan kepada ketepatan kebosanan, serta sifat keseluruhan dan sifat terma vakum chuck.

Ketepatan kebosanan:

Aloi Aluminium 6061: Menyediakan kebosanan yang sangat baik dengan ketepatan, menjadikannya pilihan yang popular untuk tugas pengendalian wafer yang kurang menuntut.

SUS430: Semasa menawarkan kestabilan mekanikal pepejal, SUS430 mempunyai ketepatan kebosanan yang sedikit lebih rendah daripada aloi aluminium.

Alumina Seramik (99% Alumina): Menawarkan ketepatan kebosanan terbaik kerana kestabilan dimensi tinggi di bawah suhu tinggi dan tekanan mekanikal.

Granit: Dikenali dengan kestabilannya, granit memberikan kebosanan yang tepat, terutamanya dalam persekitaran sensitif getaran.

Silicon Carbide Ceramic: Menyediakan ketepatan kebosanan yang luar biasa dan sesuai untuk pengendalian wafer ketepatan tinggi dalam aplikasi suhu tinggi.

Pertimbangan Berat

Berat vakum chuck adalah satu lagi faktor penting, terutamanya untuk aplikasi di mana kemudahan pengendalian dan manipulasi Chuck adalah pertimbangan utama.