SiC Susceptor untuk ICP Etch

Semicorex SiC Susceptor untuk ICP Etch dihasilkan dengan tumpuan untuk mengekalkan standard kualiti dan konsistensi yang tinggi. Proses pembuatan teguh yang digunakan untuk mencipta susceptor ini memastikan bahawa setiap kelompok memenuhi kriteria prestasi yang ketat, memberikan hasil yang boleh dipercayai dan konsisten dalam etsa semikonduktor. Selain itu, Semicorex dilengkapi untuk menawarkan jadual penghantaran yang cepat, yang penting untuk mengikuti permintaan pemulihan pesat industri semikonduktor, memastikan garis masa pengeluaran dipenuhi tanpa menjejaskan kualiti. Kami di Semicorex berdedikasi untuk mengeluarkan dan membekalkan prestasi tinggi SiC Susceptor untuk ICP Etch yang menggabungkan kualiti dengan kecekapan kos.**

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Semicorex SiC Susceptor untuk ICP Etch terkenal dengan kekonduksian terma yang sangat baik, yang membolehkan pengagihan haba yang cepat dan seragam ke seluruh permukaan. Ciri ini penting untuk mengekalkan suhu yang konsisten semasa proses goresan, memastikan ketepatan tinggi dalam pemindahan corak. Selain itu, pekali pengembangan terma rendah SiC meminimumkan perubahan dimensi di bawah suhu yang berbeza-beza, dengan itu mengekalkan integriti struktur dan menyokong penyingkiran bahan yang tepat dan seragam.

Salah satu sifat menonjol SiC Susceptor untuk ICP Etch ialah ketahanannya terhadap kesan plasma. Rintangan ini memastikan bahawa susceptor tidak merosot atau terhakis di bawah keadaan keras pengeboman plasma, yang biasa berlaku dalam proses etsa ini. Ketahanan ini meningkatkan kebolehpercayaan proses goresan dan menyumbang kepada penghasilan corak goresan yang bersih dan jelas dengan kecacatan yang minimum.

SiC Susceptor untuk ICP Etch sememangnya tahan terhadap kakisan oleh asid dan alkali kuat, yang merupakan sifat penting untuk bahan yang digunakan dalam persekitaran etsa ICP. Rintangan kimia ini memastikan SiC Susceptor untuk ICP Etch mengekalkan sifat fizikal dan mekanikalnya dari semasa ke semasa, walaupun apabila terdedah kepada reagen kimia yang agresif. Ketahanan ini mengurangkan keperluan untuk penggantian dan penyelenggaraan yang kerap, dengan itu mengurangkan kos operasi dan meningkatkan masa operasi kemudahan fabrikasi semikonduktor.

Semicorex SiC Susceptor untuk ICP Etch boleh direka bentuk dengan tepat untuk memenuhi keperluan dimensi tertentu, yang merupakan faktor kritikal dalam pembuatan semikonduktor di mana penyesuaian sering diperlukan untuk menampung pelbagai saiz wafer dan spesifikasi pemprosesan. Kebolehsuaian ini membolehkan integrasi yang lebih baik dengan peralatan dan barisan proses sedia ada, mengoptimumkan kecekapan dan keberkesanan keseluruhan proses goresan.