Bot wafer silikon

Semicorex boleh menyesuaikan struktur bot wafer silikon, termasuk bentuk batang alur, panjang gigi alur, bentuk, sudut kecondongan, dan jumlah kapasiti pemuatan wafer, dan boleh dihasilkan mengikut keperluan pelanggan. Bot silikon suhu tinggi dapat mengurangkan kerosakan hubungan dengan wafer silikon dan meningkatkan hasil proses. Reka bentuk "menara bebas slip" yang tinggi menyokong wafer hanya di hujung gigi sokongan. Berbanding denganSilicon Carbide, silikon mempunyai kekerasan yang agak rendah, yang mengurangkan kerosakan mekanikal kepada wafer, dengan itu meningkatkan kadar lulus kisi dan mengurangkan kos pengeluaran dengan berkesan. Bot silikon yang disatu terdiri daripada beberapa bahagian: gigi, plat asas, dan plat atas, yang bersatu bersama. Ini mengurangkan kos pengeluaran. Sekiranya berlaku kerosakan separa, bahagian yang rosak boleh diganti tanpa menggantikan seluruh bot silikon, dengan ketara mengurangkan kos pemilikan semasa digunakan. Di samping itu, bot silikon mempunyai had atas yang besar untuk pemendapan polysilicon, yang dapat mengurangkan kekerapan peralatan PM dan meningkatkan kapasiti pengeluaran.

Semicorex Silicon Wafer Boat adalah pembawa wafer yang direka bentuk, yang direka bentuk, yang inovatif. Ia dibuat secara khusus untuk pemprosesan relau suhu tinggi yang digunakan dalam industri semikonduktor, termasuk proses pengoksidaan dan pengurangan pada suhu antara 1200 dan 1250 ° C. Mempunyai manfaat prestasi yang tidak terdapat dalam bahan silikon karbida (sic), bot silikon wafer memberikan kelebihan yang berkaitan dengan proses pembuatan semikonduktor yang ketat. Pertama, kesucian ultra tinggi bahan silikon adalah penting; Malah,bahan silikonMencapai tahap kemelut ultra tinggi melebihi 9N (99.9999999%), dengan itu memastikan tiada kekotoran logam atau asing akan mencemarkan pemprosesan wafer. Ini adalah penting untuk pembuatan peranti semikonduktor terkemuka di mana kebolehpercayaan dan hasil prestasi sangat dipengaruhi oleh pencemaran. Bot wafer silikon menyediakan persekitaran yang sangat bersih dengan tahap kesucian yang tinggi yang sesuai untuk keperluan industri yang paling maju untuk pengendalian wafer yang terdedah kepada suhu yang sangat tinggi untuk pengoksidaan dan pemprosesan pengurangan.

Manfaat lain daribahan silikonadalah sifat kekerasan yang lebih rendah jika dibandingkan dengan bahan SIC. Bar atau bot sic dikenali untuk kekerasan dan kekuatan, tetapi harta itu boleh menyebabkan kesukaran semasa pemprosesan wafer. Pada suhu tinggi, wafer akan bergerak mikro; Mereka akan melantun sedikit, beralih sedikit, dan meledakkan kelebihan di dalam bot. Bahan yang lebih keras dan sic boleh menimbulkan risiko yang lebih tinggi untuk menghasilkan zarah atau calar ke bahagian belakang wafer sebagai sifat wafer dan bot berinteraksi di bawah keadaan pemprosesan suhu tinggi ini.

Bot wafer silikon mengurangkan kebimbangan ini dengan memanfaatkan watak silikon yang agak lembut berhubung dengan SIC. Pengurangan kekerasan membolehkan kedua -dua kurang geseran dan tekanan mekanikal apabila wafer menghubungi bot semasa kitaran haba. Akibatnya, zarah dijana kurang kerap dan risiko calar belakang dikurangkan kepada hampir sifar. Selain itu, dengan meminimumkan kecacatan permukaan, bot wafer silikon terus meningkatkan kualiti kisi dan menimbulkan kadar kelayakan keseluruhan wafer yang diproses. Bagi fabs semikonduktor yang ingin meningkatkan hasil dengan kawalan kualiti maksimum, keadaan prestasi ini menjadikan bot silikon sebagai pilihan yang menarik.

Silicon menawarkan kestabilan dan kekuatan mekanikal yang baik pada suhu tinggi, yang membolehkan bot berkhidmat dengan pasti semasa kitaran relau berulang. Bahan ini menentang warping semasa kitaran pemanasan dan penyejukan, dan dengan itu, mengekalkan penempatan wafer yang tepat dan toleransi kedudukan walaupun semasa kitaran relau cepat. Keteguhan terma ini memberikan hasil proses yang boleh dipercayai yang cukup konsisten untuk pengeluaran volum tinggi dengan variasi minimum antara larian. Bot wafer silikon dibina dengan ketepatan dimensi tinggi untuk memastikan kedudukan dan penempatan wafer yang konsisten. Bot ini direka menggunakan pemesinan dan penggilap canggih untuk mewujudkan permukaan yang lancar, geometri dekat dan toleransi yang ketat.