Mandi silikon kristal tunggal

Semicorex silikon kristal tunggalShowerheadmenunjukkan rintangan kakisan yang luar biasa, pekali pengembangan yang rendah, dan kekonduksian haba yang sangat baik. Sturdily menyesuaikan diri dengan keadaan keras suhu tinggi, kekerasan yang tinggi, dan vakum yang tinggi dalam pembuatan semikonduktor, ia menunjukkan toleransi yang luar biasa untuk memproses gas seperti gas etsa dan pemendapan. Oleh itu, pancuran mandian silikon kristal tunggal digunakan secara meluas dalam proses pembersihan semikonduktor, proses pengoksidaan, proses pemendapan dan proses etsa.

Semicorex menggunakan teknik rawatan permukaan maju untuk memastikan permukaan silikon silikon kristal tunggal mempunyai ciri -ciri yang sangat tinggi dan kelancaran. Sementara itu, bergantung kepada reka bentuk struktur saluran dan laluan gas yang diseragamkan, permukaan silikon silikon kristal tunggal diedarkan secara seragam dengan banyak liang diameter yang sama (diameter minimum boleh mencapai 0.2 milimeter). Toleransi diameter liang dari pancuran mandian silikon kristal tunggal dikawal dengan tepat pada paras mikrometer, dan dinding dalaman liang mesti lancar dan bebas daripada burrs, memastikan ketepatan pengedaran dan keseragaman proses gas dari aspek struktur dan proses.

Semicorex menyediakan perkhidmatan penyesuaian pakar untuk memenuhi pelbagai keperluan pelanggan. Mengikut pelbagai keperluan pelanggannya, ia dapat menyesuaikan penyelesaian penampilan agar sesuai dengan dimensi dan bentuk ruang reaksi mereka. Reka bentuk yang dioptimumkan membolehkan wafer membuat hubungan penuh dan konsisten dengan gas proses sepanjang proses tindak balas dengan menjamin bahawa gas disebarkan secara merata di seluruh ruang tindak balas. Ini akhirnya meningkatkan kecekapan pengeluaran dan kualiti produk.