Pembawa Wafer MOCVD untuk Industri Semikonduktor

Pembawa Wafer Semicorex MOCVD untuk Industri Semikonduktor ialah pembawa teratas yang direka untuk digunakan dalam industri semikonduktor. Bahan ketulenan tingginya memastikan profil terma yang sekata dan corak aliran gas lamina, memberikan wafer berkualiti tinggi.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Pembawa Wafer MOCVD kami untuk Industri Semikonduktor sangat tulen, dibuat oleh pemendapan wap kimia CVD di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi, memastikan keseragaman dan konsistensi produk. Ia juga sangat tahan kakisan, dengan permukaan yang padat dan zarah halus, menjadikannya tahan terhadap asid, alkali, garam dan reagen organik. Rintangan pengoksidaan suhu tinggi memastikan kestabilan pada suhu tinggi sehingga 1600°C.
Hubungi kami hari ini untuk mengetahui lebih lanjut tentang Pembawa Wafer MOCVD kami untuk Industri Semikonduktor.

Parameter Pembawa Wafer MOCVD untuk Industri Semikonduktor

Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC
Sifat SiC-CVD
Struktur Kristal	fasa FCC β
Ketumpatan	g/cm ³	3.21
Kekerasan	Kekerasan Vickers	2500
Saiz Bijirin	μm	2~10
Ketulenan Kimia	%	99.99995
Kapasiti Haba	J kg-1 K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuatan Feleksural	MPa (RT 4 mata)	415
Modulus Muda	Gpa (4pt selekoh, 1300℃)	430
Pengembangan Terma (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Kekonduksian terma	(W/mK)	300

Ciri-ciri Susceptor Grafit Bersalut SiC untuk MOCVD

- Elakkan mengelupas dan pastikan salutan pada semua permukaan
Rintangan pengoksidaan suhu tinggi: Stabil pada suhu tinggi sehingga 1600°C
Ketulenan tinggi: dibuat oleh pemendapan wap kimia CVD di bawah keadaan pengklorinan suhu tinggi.
Rintangan kakisan: kekerasan tinggi, permukaan padat dan zarah halus.
Rintangan kakisan: asid, alkali, garam dan reagen organik.
- Mencapai corak aliran gas lamina terbaik
- Menjamin kesekataan profil terma
- Elakkan sebarang pencemaran atau resapan bendasing