Pembawa Salutan RTP SiC

Pembawa Salutan Semicorex RTP SiC menawarkan rintangan haba yang unggul dan keseragaman terma, menjadikannya penyelesaian yang sempurna untuk aplikasi pemprosesan wafer semikonduktor. Dengan grafit bersalut SiC berkualiti tinggi, produk ini direka bentuk untuk menahan persekitaran pemendapan paling keras untuk pertumbuhan epitaxial. Kekonduksian terma yang tinggi dan sifat pengedaran haba yang sangat baik memastikan prestasi yang boleh dipercayai untuk RTA, RTP, atau pembersihan kimia yang keras.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Pembawa Salutan SiC RTP kami direka bentuk untuk menahan keadaan paling sukar dalam persekitaran pemendapan. Dengan haba yang tinggi dan rintangan kakisan, susceptor epitaksi tertakluk kepada persekitaran pemendapan yang sempurna untuk pertumbuhan epitaksi. Salutan kristal SiC yang halus pada pembawa memastikan permukaan yang licin dan ketahanan yang tinggi terhadap pembersihan kimia, manakala bahan direka bentuk untuk mengelakkan keretakan dan penyimpangan.
Di Semicorex, kami menumpukan pada menyediakan pembawa salutan RTP SiC yang berkualiti tinggi, kos efektif, kami mengutamakan kepuasan pelanggan dan menyediakan penyelesaian yang menjimatkan kos. Kami berharap untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda, menyampaikan produk berkualiti tinggi dan perkhidmatan pelanggan yang luar biasa.
Hubungi kami hari ini untuk mengetahui lebih lanjut tentang Pembawa Salutan SiC RTP kami.

Parameter Pembawa Salutan SiC RTP

Spesifikasi Utama Salutan CVD-SIC
Sifat SiC-CVD
Struktur Kristal	fasa FCC β
Ketumpatan	g/cm ³	3.21
Kekerasan	Kekerasan Vickers	2500
Saiz Bijirin	μm	2~10
Ketulenan Kimia	%	99.99995
Kapasiti Haba	J kg-1 K-1	640
Suhu Sublimasi	℃	2700
Kekuatan Feleksural	MPa (RT 4 mata)	415
Modulus Muda	Gpa (4pt selekoh, 1300℃)	430
Pengembangan Terma (C.T.E)	10-6K-1	4.5
Kekonduksian terma	(W/mK)	300

Ciri-ciri Pembawa Salutan SiC RTP

Grafit bersalut SiC ketulenan tinggi
Rintangan haba yang unggul & keseragaman haba
Disalut kristal SiC halus untuk permukaan licin
Ketahanan tinggi terhadap pembersihan kimia
Bahan direka supaya keretakan dan delaminasi tidak berlaku.