Salutan SiC ialah lapisan nipis pada susceptor melalui proses pemendapan wap kimia (CVD). Bahan silikon karbida memberikan beberapa kelebihan berbanding silikon, termasuk 10x kekuatan medan elektrik pecahan, 3x jurang jalur, yang menyediakan bahan dengan suhu tinggi dan rintangan kimia, rintangan haus yang sangat baik serta kekonduksian terma.
Semicorex menyediakan perkhidmatan tersuai, membantu anda berinovasi dengan komponen yang tahan lebih lama, mengurangkan masa kitaran dan meningkatkan hasil.
Salutan SiC mempunyai beberapa kelebihan unik
Rintangan Suhu Tinggi: Susceptor bersalut CVD SiC boleh menahan suhu tinggi sehingga 1600°C tanpa mengalami degradasi haba yang ketara.
Rintangan Kimia: Salutan silikon karbida memberikan rintangan yang sangat baik terhadap pelbagai jenis bahan kimia, termasuk asid, alkali dan pelarut organik.
Rintangan Haus: Salutan SiC menyediakan bahan dengan rintangan haus yang sangat baik, menjadikannya sesuai untuk aplikasi yang melibatkan haus dan lusuh yang tinggi.
Kekonduksian Terma: Salutan SiC CVD menyediakan bahan dengan kekonduksian terma yang tinggi, menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam aplikasi suhu tinggi yang memerlukan pemindahan haba yang cekap.
Kekuatan dan Kekakuan Tinggi: Suseptor bersalut silikon karbida menyediakan bahan dengan kekuatan dan kekakuan yang tinggi, menjadikannya sesuai untuk aplikasi yang memerlukan kekuatan mekanikal yang tinggi.
Salutan SiC digunakan dalam pelbagai aplikasi
Pengilangan LED: Susceptor bersalut CVD SiC digunakan dalam pembuatan diproses pelbagai jenis LED, termasuk LED biru dan hijau, LED UV dan LED UV dalam, kerana kekonduksian haba yang tinggi dan rintangan kimia.
Komunikasi mudah alih: Susceptor bersalut CVD SiC ialah bahagian penting HEMT untuk melengkapkan proses epitaxial GaN-on-SiC.
Pemprosesan Semikonduktor: Susceptor bersalut CVD SiC digunakan dalam industri semikonduktor untuk pelbagai aplikasi, termasuk pemprosesan wafer dan pertumbuhan epitaxial.
Komponen grafit bersalut SiC
Diperbuat oleh Silicon Carbide Coating (SiC) grafit, salutan digunakan dengan kaedah CVD untuk gred tertentu grafit berketumpatan tinggi, supaya ia boleh beroperasi dalam relau suhu tinggi dengan lebih 3000 °C dalam suasana lengai, 2200°C dalam vakum .
Ciri khas dan jisim bahan yang rendah membolehkan kadar pemanasan yang cepat, pengagihan suhu seragam dan ketepatan yang luar biasa dalam kawalan.
Data bahan Salutan Semicorex SiC
Sifat tipikal |
Unit |
Nilai |
Struktur |
|
Fasa FCC β |
Orientasi |
Pecahan (%) |
111 diutamakan |
Ketumpatan pukal |
g/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
Kekerasan Vickers |
2500 |
Kapasiti Haba |
J·kg-1 ·K-1 |
640 |
Pengembangan terma 100â600 °C (212â1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Modulus Muda |
Gpa (4pt selekoh, 1300â) |
430 |
Saiz bijirin |
μm |
2~10 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 mata) |
415 |
Kekonduksian terma |
(W/mK) |
300 |
Kesimpulan Suseptor bersalut CVD SiC ialah bahan komposit yang menggabungkan sifat suseptor dan silikon karbida. Bahan ini mempunyai sifat unik, termasuk suhu tinggi dan rintangan kimia, rintangan haus yang sangat baik, kekonduksian haba yang tinggi, dan kekuatan dan kekakuan yang tinggi. Ciri-ciri ini menjadikannya bahan yang menarik untuk pelbagai aplikasi suhu tinggi, termasuk pemprosesan semikonduktor, pemprosesan kimia, rawatan haba, pembuatan sel solar dan pembuatan LED.
Jika anda sedang mencari suseptor grafit berkualiti tinggi yang disalut dengan SiC ketulenan tinggi, Semicorex LPE Barrel Susceptor dengan Salutan SiC ialah pilihan yang tepat. Kekonduksian haba yang luar biasa dan sifat pengagihan haba menjadikannya ideal untuk digunakan dalam aplikasi pembuatan semikonduktor.
Baca LagiHantar PertanyaanDengan ketumpatan dan kekonduksian terma yang unggul, Susceptor Tong Bersalut Semicorex SiC untuk Pertumbuhan Epitaxial ialah pilihan ideal untuk digunakan dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis. Disalut dengan SiC ketulenan tinggi, produk grafit ini memberikan perlindungan yang sangat baik dan pengagihan haba, memastikan prestasi yang boleh dipercayai dan konsisten dalam aplikasi pembuatan semikonduktor.
Baca LagiHantar PertanyaanSusceptor Tong Bersalut Semicorex SiC untuk LPE ialah pilihan yang tepat untuk aplikasi pertumbuhan kristal tunggal, terima kasih kepada permukaannya yang sangat rata dan salutan SiC berkualiti tinggi. Takat leburnya yang tinggi, rintangan pengoksidaan dan rintangan kakisan menjadikannya pilihan yang ideal untuk digunakan dalam persekitaran suhu tinggi dan menghakis.
Baca LagiHantar PertanyaanSemicorex SiC Coated Epitaxial Reactor Barrel ialah produk grafit berkualiti tinggi yang disalut dengan SiC ketulenan tinggi. Ketumpatan dan kekonduksian terma yang sangat baik menjadikannya pilihan yang ideal untuk digunakan dalam proses LPE, memberikan pengagihan haba yang luar biasa dan perlindungan dalam persekitaran yang menghakis dan suhu tinggi.
Baca LagiHantar PertanyaanSusceptor Barrel Reaktor Bersalut Semicorex Carbide ialah produk grafit berkualiti premium yang disalut dengan SiC ketulenan tinggi, direka khusus untuk proses LPE. Dengan rintangan haba dan kakisan yang sangat baik, produk ini sesuai untuk digunakan dalam aplikasi pembuatan semikonduktor.
Baca LagiHantar PertanyaanTong Susceptor Bersalut SiC Semicorex untuk Ruang Reaktor LPE ialah penyelesaian yang sangat boleh dipercayai untuk proses pembuatan semikonduktor, yang menampilkan pengedaran haba yang unggul dan sifat kekonduksian terma. Ia juga sangat tahan terhadap kakisan, pengoksidaan, dan suhu tinggi.
Baca LagiHantar Pertanyaan