Salutan SiC ialah lapisan nipis pada susceptor melalui proses pemendapan wap kimia (CVD). Bahan silikon karbida memberikan beberapa kelebihan berbanding silikon, termasuk 10x kekuatan medan elektrik pecahan, 3x jurang jalur, yang menyediakan bahan dengan suhu tinggi dan rintangan kimia, rintangan haus yang sangat baik serta kekonduksian terma.
Semicorex menyediakan perkhidmatan tersuai, membantu anda berinovasi dengan komponen yang tahan lebih lama, mengurangkan masa kitaran dan meningkatkan hasil.
Salutan SiC mempunyai beberapa kelebihan unik
Rintangan Suhu Tinggi: Susceptor bersalut CVD SiC boleh menahan suhu tinggi sehingga 1600°C tanpa mengalami degradasi haba yang ketara.
Rintangan Kimia: Salutan silikon karbida memberikan rintangan yang sangat baik terhadap pelbagai bahan kimia, termasuk asid, alkali dan pelarut organik.
Rintangan Haus: Salutan SiC menyediakan bahan dengan rintangan haus yang sangat baik, menjadikannya sesuai untuk aplikasi yang melibatkan haus dan lusuh yang tinggi.
Kekonduksian Terma: Salutan SiC CVD menyediakan bahan dengan kekonduksian terma yang tinggi, menjadikannya sesuai untuk digunakan dalam aplikasi suhu tinggi yang memerlukan pemindahan haba yang cekap.
Kekuatan dan Kekakuan Tinggi: Suseptor bersalut silikon karbida menyediakan bahan dengan kekuatan dan kekakuan yang tinggi, menjadikannya sesuai untuk aplikasi yang memerlukan kekuatan mekanikal yang tinggi.
Salutan SiC digunakan dalam pelbagai aplikasi
Pengilangan LED: Susceptor bersalut CVD SiC digunakan dalam pembuatan diproses pelbagai jenis LED, termasuk LED biru dan hijau, LED UV dan LED UV dalam, kerana kekonduksian haba yang tinggi dan rintangan kimia.
Komunikasi mudah alih: Susceptor bersalut CVD SiC ialah bahagian penting HEMT untuk melengkapkan proses epitaxial GaN-on-SiC.
Pemprosesan Semikonduktor: Susceptor bersalut CVD SiC digunakan dalam industri semikonduktor untuk pelbagai aplikasi, termasuk pemprosesan wafer dan pertumbuhan epitaxial.
Komponen grafit bersalut SiC
Diperbuat oleh grafit Salutan Silikon Karbida (SiC), salutan digunakan dengan kaedah CVD untuk gred tertentu grafit berketumpatan tinggi, supaya ia boleh beroperasi dalam relau suhu tinggi dengan lebih 3000 °C dalam suasana lengai, 2200°C dalam vakum .
Ciri khas dan jisim bahan yang rendah membolehkan kadar pemanasan yang cepat, pengagihan suhu seragam dan ketepatan yang luar biasa dalam kawalan.
Data bahan Salutan Semicorex SiC
Sifat tipikal |
Unit |
Nilai |
Struktur |
|
fasa FCC β |
Orientasi |
Pecahan (%) |
111 diutamakan |
Ketumpatan pukal |
g/cm³ |
3.21 |
Kekerasan |
Kekerasan Vickers |
2500 |
Kapasiti Haba |
J kg-1 K-1 |
640 |
Pengembangan terma 100–600 °C (212–1112 °F) |
10-6K-1 |
4.5 |
Modulus Muda |
Gpa (4pt selekoh, 1300℃) |
430 |
Saiz Bijirin |
μm |
2~10 |
Suhu Sublimasi |
℃ |
2700 |
Kekuatan Feleksural |
MPa (RT 4 mata) |
415 |
Kekonduksian terma |
(W/mK) |
300 |
Kesimpulan Suseptor bersalut CVD SiC ialah bahan komposit yang menggabungkan sifat suseptor dan silikon karbida. Bahan ini mempunyai sifat unik, termasuk suhu tinggi dan rintangan kimia, rintangan haus yang sangat baik, kekonduksian haba yang tinggi, dan kekuatan dan kekakuan yang tinggi. Ciri-ciri ini menjadikannya bahan yang menarik untuk pelbagai aplikasi suhu tinggi, termasuk pemprosesan semikonduktor, pemprosesan kimia, rawatan haba, pembuatan sel solar dan pembuatan LED.
Semicorex SiC Coating Ring ialah komponen kritikal dalam persekitaran yang menuntut proses epitaksi semikonduktor. Dengan komitmen teguh kami untuk menyediakan produk berkualiti tinggi pada harga yang kompetitif, kami bersedia untuk menjadi rakan kongsi jangka panjang anda di China.*
Baca LagiHantar PertanyaanSemicorex memperkenalkan Susceptor Cakera SiCnya, yang direka untuk meningkatkan prestasi Epitaksi, Pemendapan Wap Kimia Logam-Organik (MOCVD) dan peralatan Pemprosesan Terma Pantas (RTP). Susceptor Cakera SiC yang direka dengan teliti menyediakan ciri-ciri yang menjamin prestasi unggul, ketahanan dan kecekapan dalam persekitaran suhu tinggi dan vakum.**
Baca LagiHantar PertanyaanKomitmen Semicorex terhadap kualiti dan inovasi terbukti dalam Segmen Penutup MOCVD SiC. Dengan mendayakan epitaksi SiC yang boleh dipercayai, cekap dan berkualiti tinggi, ia memainkan peranan penting dalam memajukan keupayaan peranti semikonduktor generasi akan datang.**
Baca LagiHantar PertanyaanSegmen Dalaman Semicorex SiC MOCVD ialah bahan habis guna yang penting untuk sistem pemendapan wap kimia logam-organik (MOCVD) yang digunakan dalam pengeluaran wafer epitaxial silikon karbida (SiC). Ia direka dengan tepat untuk menahan keadaan epitaksi SiC yang mencabar, memastikan prestasi proses yang optimum dan epilayer SiC berkualiti tinggi.**
Baca LagiHantar PertanyaanSemicorex SiC ALD Susceptor menawarkan banyak kelebihan dalam proses ALD, termasuk kestabilan suhu tinggi, keseragaman dan kualiti filem yang dipertingkatkan, kecekapan proses yang lebih baik dan jangka hayat susceptor yang dilanjutkan. Faedah ini menjadikan SiC ALD Susceptor sebagai alat yang berharga untuk mencapai filem nipis berprestasi tinggi dalam pelbagai aplikasi yang mencabar.**
Baca LagiHantar PertanyaanSemicorex ALD Planetary Susceptor adalah penting dalam peralatan ALD kerana keupayaannya untuk menahan keadaan pemprosesan yang keras, memastikan pemendapan filem berkualiti tinggi untuk pelbagai aplikasi. Memandangkan permintaan untuk peranti semikonduktor termaju dengan dimensi yang lebih kecil dan prestasi yang dipertingkatkan terus berkembang, penggunaan ALD Planetary Susceptor dalam ALD dijangka terus berkembang.**
Baca LagiHantar Pertanyaan