Pembawa Wafer dengan Salutan SiC

Pembawa Wafer Semicorex dengan Salutan SiC, bahagian penting dalam sistem pertumbuhan epitaxial, dibezakan oleh ketulenannya yang luar biasa, ketahanan terhadap suhu yang melampau, dan sifat pengedap yang teguh, berfungsi sebagai dulang yang penting untuk sokongan dan pemanasan wafer semikonduktor semasa fasa kritikal pemendapan lapisan epitaxial, dengan itu mengoptimumkan prestasi keseluruhan proses MOCVD. Kami di Semicorex berdedikasi untuk mengeluarkan dan membekalkan Pembawa Wafer berprestasi tinggi dengan Salutan SiC yang menggabungkan kualiti dengan kecekapan kos.

Hantar Pertanyaan

Penerangan Produk

Pembawa Wafer Semicorex dengan Salutan SiC mempamerkan kestabilan terma dan kekonduksian yang luar biasa, penting untuk mengekalkan suhu yang konsisten semasa proses pemendapan wap kimia (CVD). Ini memastikan pengagihan haba seragam merentasi substrat, yang penting untuk mencapai ciri salutan dan filem nipis berkualiti tinggi.

Pembawa Wafer dengan Salutan SiC dihasilkan mengikut piawaian yang tepat, memastikan ketebalan seragam dan kelancaran permukaan. Ketepatan ini adalah penting untuk mencapai kadar pemendapan yang konsisten dan sifat filem merentas berbilang wafer.

Salutan SiC bertindak sebagai penghalang tidak telap, menghalang resapan bendasing daripada suseptor ke dalam wafer. Ini meminimumkan risiko pencemaran, yang penting untuk menghasilkan peranti semikonduktor ketulenan tinggi. Ketahanan Pembawa Wafer Semicorex dengan Salutan SiC mengurangkan kekerapan penggantian susceptor, membawa kepada kos penyelenggaraan yang lebih rendah dan meminimumkan masa henti dalam operasi pembuatan semikonduktor.

Pembawa Wafer Semicorex dengan Salutan SiC boleh disesuaikan untuk memenuhi keperluan proses tertentu, termasuk variasi dalam saiz, bentuk dan ketebalan salutan. Fleksibiliti ini membolehkan pengoptimuman susceptor untuk memadankan permintaan unik proses fabrikasi semikonduktor yang berbeza. Pilihan penyesuaian membolehkan pembangunan reka bentuk susceptor yang disesuaikan untuk aplikasi khusus, seperti pembuatan volum tinggi atau penyelidikan dan pembangunan, memastikan prestasi optimum untuk kes penggunaan tertentu.