China Komponen Semikonduktor Pengilang, Pembekal, Kilang

Sebagai pengilang profesional, kami ingin memberikan anda Komponen Semikonduktor. Semicorex ialah rakan kongsi anda untuk menambah baik dalam pemprosesan semikonduktor. Salutan silikon karbida kami adalah padat, tahan suhu tinggi dan bahan kimia, yang sering digunakan dalam keseluruhan kitaran pembuatan semikonduktor, termasuk pemprosesan wafer & wafer semikonduktor dan fabrikasi semikonduktor.

Komponen bersalut SiC ketulenan tinggi adalah penting untuk proses dalam semikonduktor. Tawaran kami terdiri daripada bahan guna habis grafit untuk zon panas tumbuh kristal (pemanas, susceptor crucible, penebat), kepada komponen grafit berketepatan tinggi untuk peralatan pemprosesan wafer, seperti susceptor grafit bersalut silikon karbida untuk Epitaxy atau MOCVD.

Kelebihan untuk proses semikonduktor

Fasa pemendapan filem nipis seperti epitaksi atau MOCVD, atau pemprosesan pengendalian wafer seperti etsa atau implan ion mesti bertahan pada suhu tinggi dan pembersihan kimia yang keras. Semicorex membekalkan pembinaan grafit bersalut silikon karbida (SiC) ketulenan tinggi memberikan rintangan haba yang unggul dan rintangan kimia tahan lama, malah keseragaman terma untuk ketebalan dan rintangan lapisan epi yang konsisten.

Penutup Bilik →
Penutup Kebuk yang digunakan dalam pertumbuhan kristal dan pemprosesan pengendalian wafer mesti tahan suhu tinggi dan pembersihan kimia yang keras.

Pengesan Akhir →
End effector ialah tangan robot yang menggerakkan wafer semikonduktor antara kedudukan dalam peralatan pemprosesan wafer dan pembawa.

Gelang Masuk →
Cincin masuk gas bersalut SiC oleh peralatan MOCVD Pertumbuhan kompaun mempunyai rintangan haba dan kakisan yang tinggi, yang mempunyai kestabilan yang hebat dalam persekitaran yang melampau.

Cincin Fokus →
Semicorex membekalkan Cincin fokus Silicon Carbide Coated benar-benar stabil untuk RTA, RTP atau pembersihan kimia yang keras.

Wafer Chuck →
Chuck wafer vakum seramik ultra-rata semicorex adalah bersalut SiC ketulenan tinggi yang digunakan dalam proses pengendalian wafer.